高市收到坏消息中方高调宣布一个小成就日本反制手段失效

  近日，央视新闻客户端报道了一条看似不起眼的消息，却透露出中国在高科技领域取得的一个关键进展。1月12日，中国工业与信息化部党组书记、部长在接受央视新闻采访时，谈到了中国在AI领域的成就，尤其在应用场景和人才优势方面的突出表现。与此同时，中方特别提到了一个似乎毫不起眼的物品——装光刻胶的玻璃罐，作为中国科技攻关的重大成果之一，并强调这款产品已经在生产线上进行了试用，反响良好。乍一看，这个成就显得简单，但其中却蕴藏着深远的意义。一个普通的玻璃罐，为何值得部级官员亲自介绍？为何它能在众多新兴科学技术产品中脱颖而出？这里面，必定有着不为人知的深意。

  光刻胶的储存容器远非普通玻璃瓶那么简单。光刻胶，被誉为半导体工业的血液，它对储存容器的要求极为严苛，达到了原子级别的精准。这背后所涉及的技术，不仅是一个简单的容器问题，更关系到半导体行业的命脉。光刻胶有两个致命的弱点，其中之一便是它对紫外线的高度敏感性。在使用之前，光刻胶绝不能接触紫外线，否则它就会失去感光功能，彻底废掉。因此，存储光刻胶的容器一定要具有完全屏蔽紫外线的功能。或许有人会问，既然光刻胶如此怕紫外线，为啥不直接用不透明的容器？其实，这样的一个问题的答案并不简单。光刻胶的使用的过程要求工作人员能透过容器观察其剩余量，以确保生产流程不被中断，因此容器只能是半透明的，例如琥珀色。这看似简单的要求，却对容器材质提出了极高的要求。并且，光刻胶储存容器的玻璃瓶内壁一定要进行化学钝化处理，以避免光刻胶被瓶壁吸附，换句话说，容器必须做到防粘。

  除了紫外线的敏感性，光刻胶还极其容易受到污染，且对杂质的容忍度几乎能忽略不计。光刻胶对外界杂质的容忍度，达到了百万分之一甚至十亿分之一的水平。简单来说，任何杂质的直径不允许超出发丝的1/500甚至1/900，否则光刻胶就会变得不合格，甚至导致整个芯片报废。为了达到这种极致的纯净度，光刻胶对容器的材质要求尤为苛刻，而瓶口的密封性要求更是精确到极致，误差范围仅为正负0.01毫米。同时，容器的垫片不能释放塑化剂，运送过程中一定要保持严密封闭，防止任何微粒污染光刻胶。过去的几十年里，中国几乎完全依赖日本、德国等外企提供这样的高端容器。尽管中国自主研发光刻胶后，成功打破了依赖，但依然面临有胶无瓶的困境，导致相关这类的产品无法顺利进入产业链。

  光刻胶容器的研发不仅技术难度极大，而且还面临一个现实问题：类似于早年的圆珠笔笔尖钢，中国并不是无法研发出这样的容器，而是因为全球市场有限，国内企业不愿意投入巨资进行研发。即使有大公司进行研发并投产，产品一旦投放市场，全球市场将迅速饱和，价格会一下子就下降，研发投入的回报几乎不可避免地受一定的影响。然而，当中国半导体行业在西方发达国家的围追堵截下，意识到自主掌握关键技术的必要性时，情况出现了转变。无论这些技术看起来多么不起眼，甚至没有直接的商业利润，国家也一定要能自主研发出来。于是，经过七年的努力，中国终于在这样的领域取得了突破，这个看似简单的玻璃罐，也因此成为了中国半导体行业全产业链协同的象征。

  对于日本来说，这一消息无疑是最为痛心的打击。因为中国已经对日本实施了全面的两用物项禁运，日本试图用其擅长的半导体技术反制中国的举措，眼下已经无从下手。日本半导体行业的困境也正是自己造成的，不得不承认，眼下的局面，正是他们曾经抛弃合作、选择对中国进行技术封锁的后果。返回搜狐，查看更加多